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事件：公司3 月30 日发布了2022 年年度报告，2022 年公司营收47.40 亿元，同比增长52.50%；归母净利润11.70 亿元，同比增长15.66%；扣非净利润9.19 亿元，同比增长183.44%。分季度看，2022 年Q4 单季营收16.97亿元，同比增长63.88%，环比增长58.39%；归母净利润3.77 亿元，同比下降19.75%，环比增长15.88%；扣非净利润2.76 亿元，同比增长72.79%，环比增长35.60%。

业绩表现亮眼，新签订单持续高增长：2022 年公司营收及扣非后归母净利润保持快速增长，主要由于：1）等离子体刻蚀设备的市占率不断提高，在5纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上均实现多次批量销售；2）MOCVD设备在新一代Mini-LED 产业化中，在蓝绿光LED 生产线上取得了领先地位；2022 年公司毛利率为45.74%，同比提升2.38pct，毛利率水平持续提升；净利率为24.64%，同比下降7.90pct。费用方面，2022 年销售费用/管理费用/研发费用/财务费用率分别为8.62%/4.98%/12.77%/-3.19%，同比变动分别为-0.91/-1.54/-0.02/-0.91pct，费用管控情况良好。2022 年新签订单金额约63.2 亿元，较2021 年增加约21.9 亿元，同比增长约53.0%，订单销售比达到1.33。合同负债达21.95 亿元，同比增长59.96%，主要由于新签订单大幅增加，预收账款相应增加。

新品研发进展顺利，持续受益半导体国产替代：公司坚持自主创新，2022 年研发投入为9.29 亿元，同比增长27.61%。公司继续保持较高的研发投入，相关设备产品研发进展顺利。分产品来看，1）刻蚀设备：存储器件方面，公司的刻蚀设备在3D NAND 生产线中被广泛应用，并通过了多个动态存储器的工艺验证，取得重复订单；公司目前针对逻辑器件的一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术进行技术攻关，已取得良好进展。2）薄膜沉积设备：公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，将进一步开发新型号CVD 钨和ALD 钨设备以实现更高深宽比结构的材料填充；应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备研发稳步推进，已进入实验室测试阶段。随着晶圆厂产能持续扩张及国产替代的加速推进，叠加公司产品结构持续优化，公司营收规模有望保持稳定增长。

MOCVD快速起量，下游渗透率持续提升：截止2022 年，公司MOCVD 产品累计出货量超过500 腔，持续保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位。

当前，公司进一步加码MOCVD 新产品及新领域拓展，不断提升产品市场渗透率：PrismoUniMax?产品凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点，受到下游客户的广泛认可，累计出货量已超过120 腔，在Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先，公司正与更多客户合作进行设备评估，扩大市场推广；用于氮化镓功率器件生产的MOCVD 设备PrismoPD5?，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。同时，公司紧跟市场发展趋势，布局行业前沿，针对Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备正在开发中。

维持“增持”评级：公司半导体设备受益半导体供给端产能扩张，产品结构持续优化，下游渗透率提升，市场份额有望进一步提升。预计公司2023-2025年归母净利润为14.51/17.48/20.55 亿元，对应EPS 为2.35/2.84/3.33 元，对应PE 为70/58/49 倍。

风险提示：产品研发进展不及预期；半导体行业扩张不及预期；下游渗透率不及预期；中美科技摩擦加剧。